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作者:佚名 文章来源:本站原创 点击数: 更新时间:2019-07-26 23:19:59

武汉新芯集成电路制造公司FAB12AFAB12B厂房工程

 

 

武汉新芯集成电路制造公司FAB12AFAB12B厂房工程位于武汉市东湖经济开发区火炬东路,为武汉新芯集成电路制造有限公司新建的两栋主厂房工程。施工内容为:FAB12A/B工程土建部分(含混凝土结构工程、钢构及防火涂装工程、装饰工程),连廊工程(含混凝土结构工程、钢构及防火涂装工程、装饰工程),给排水、雨水及消防预埋管工程,道路工程。本工程主体三层,屋凸一层,一、二层为钢筋混凝土结构,三层为钢结构。

该工程推广应用了“建筑业十项新技术”中的全部10项,共计22个子项,另有2项自主创新技术,形成了《防微振与高洁净度控制的12英寸90纳米芯片厂工程建设关键技术》,经鉴定该技术达到国际先进水平。《竖向密集穿孔超厚楼板施工工法》获国家级工法,《洁净室施工技术的研究与应用》获中建总公司科学技术奖三等奖。该工程推广应用新技术的整体水平达到了国内领先水平。

该工程还获得了湖北省建筑优质工程“楚天杯“、湖北省建筑结构优质工程,以及中国建筑工程鲁班奖。

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